低温恒温反应浴常应用于对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。 1、使用低温槽-低温恒温槽前槽内加入液体介质，介质液面应低于工作台板30mm左右，否则通电工作时会损坏加热器；
2、低温恒温槽内液体介质的选用应符合以下原则： 当工作温度在5～85℃时，液体介质一般选用水； 当工作温度在85～95℃时，液体介质可选用15%甘油水溶液； 当工作温度高于95℃时，液体介质一般选用油，并且所选择的油品的开杯闪点值应高于工作温度50℃以上；
3、电源：220V50Hz，电源功率应大于仪器的总功率，电源必须有良好“接地”装置；
4、仪器应安置于干燥通风处，仪器周围300mm内无障碍物；
5、当恒温槽工作温度较高时，应注意不要开启上盖，手勿进入槽内，以防**；
6、使用完毕，所有开关置于关闭状态，切断电源；
7.仪器应做好经常性清洁工作，保持工作台面和操作面板的整洁； 8． 经常注意观察槽内液面高低，当液面过低时，应及时添加液体介质；考虑到**因素，我们规定将高于100℃的恒温槽做成内循环。如根据客户要求改成外循环后，客户应特别注意引出管连接处的牢固性，严防脱落，以免**。
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