低温恒温反应浴常应用于对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。 提供-40℃~105℃温度范围内的高、低恒温液体，以满足用高、低温做反应的恒温仪器的需要。
特别适用与化学反应釜、发酵罐、旋转蒸发器、电子显微镜、阿贝折先仪、蒸发皿、生物制药反应器等实验设备配套使用。
先进的内循环和外循环泵系统，内循环使仪器温度均匀恒定，外循环泵输出16升/分~18升/分在流量高、低温液体。8升~40升的工作槽容积内还可放入装有生化试剂或被测样品的各种容器，直接进行高低温试验或测试，实现一机多用。
低温恒温循环器主要特点
风冷式高效全封闭制冷压缩机,降温速度快。
微机智能控制,温度**温度。
数显分辨率0.1℃或0.01℃，具有温度测量值偏差修正功能。
温度超温保护,自动切断电源并报警。
制冷系统过热、过流自动保护。
尊敬的客户：
您好，我司是一支技术力量雄厚的高素质的开发群体，为广大用户提供高品质产品、完整的解决方案和上等的技术服务公司。主要产品有 光化学反应仪 超声波细胞破碎仪 低温冷却液循环泵 恒温金属浴 等。 本企业坚持以诚信立业、以品质守业、以进取兴业的宗旨，以更坚定的步伐不断攀登新的高峰，为民族自动化行业作出贡献，欢迎新老顾客放心选购自己心仪的产品。我们将竭诚为您服务！
